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所属:真空管式炉
多温区真空管式炉是在单温区管式炉基础上升级开发的多温区独立控温型热处理设备,通过在炉管方向布置2个、3个或多个独立加热温区,可实现不同温区的独立温度设定与程序控制,在管内形成可控的温度梯度场。设备配合真空系统与气氛管路,可在真空、惰性气氛、还原气氛等环境下完成材料烧结、退火、回火、扩散、气相沉积等实验与小批量生产工艺,是高校科研院所、新材料企业、冶金陶瓷行业的核心实验设备。采用多通道PID智能控温,每个温区可独立编程50段以上升温曲线,控温精度可达±1℃,能够满足 CVD 生长、材料梯度烧结、气氛扩散实验等对温度场有精确要求的工艺需求。

